[ES] La patente describe un nuevo procedimiento para la fabricación de un medio óptico nuevo, nano estructurado y orientable, con aplicación principal para la fabricación o modificación de guías de onda óptica y para la modificación del coeficiente de Q reflexión óptico, producido mediante irradiación de un sustrato con partículas con dosis ultrabajas. Esta invención permite fabricar guías ópticas por aumento de índice de refracción con una disminución del tiempo de fabricación del orden de un factor 100, y también guías ópticas de elevado salto de índice de refracción y elevado poder confinante con una disminución del tiempo de fabricación del orden de 1000 a 10000. Esta invención permite también un medio óptico nuevo útil para sensores en guía óptica y para memorias ópticas.

[EN] The invention relates to a novel method for producing novel nanostructured and orientable optical means mainly used for producing or modifying optical waveguides and for modifying a reflection factor produced by irradiating a substrate with ultra-low-dose particles. Said invention makes it possible to produce waveguides by increasing a reflective index and reducing a production time by the factor of the order of 100, optical waveguides having a high-step reflective index and a high confining power by reducing the production time by the factor of 1,000-10,000. Said invention also makes it possible to produce novel optical means useful for optical waveguide sensors and optical memories.

Fecha de presentación internacional: 17.02.2005. - Titulares: Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC). - Universidad Autónoma de Madrid

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