[ES] Material semiconductor micro- y nano- estructurado, procedimiento de obtención y uso como patrón de calibración. La presente invención se refiere a un material semiconductor micro- y nano- estructurado que sirve como patrón de calibración, particularmente como patrón de calibración espacial y conductor en medidas con microscopios de fuerza atómica conductivo. Además la presente invención se refiere al procedimiento de fabricación de dicho material mediante la técnica de estructuración superficial periódica inducida por láser y el uso de una máscara. Por tanto, la presente invención se podría encuadrar en el sector de las técnicas de análisis y caracterización de muestras.

[EN] The present invention relates to a micro-and nano-structured semiconductor material that can be used as a calibration standard, particularly as a spatial and conductivity calibration standard in measurements using conductive atomic force microscopes. The present invention also relates to a method for producing the material by means of laser-induced periodic surface structuring and the use of a mask. Therefore, the present invention could belong to the field of sample analysis and characterisation techniques.

A1 Solicitud de patente con informe sobre el estado de la técnica

Consejo Superior de Investigaciones Científicas (España)

Peer reviewed