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El objetivo de la presente tesis se basa en la optimización del crecimiento de grafeno por métodos novedosos con precursores en estado sólido (C60) y en una exhaustiva caracterización de dicho grafeno tanto morfológica como estructural y química. Para buscar aplicaciones tecnológicas del grafeno en cobre, se han llevado a cabo experimentos para la optimización del proceso de transferencia del grafeno a sustratos aislantes, tales como el SiO2, por métodos químicos. Para dicha optimización se han considerado dos aproximaciones: por un lado, la intercalación en la interfase grafeno/cobre de moléculas por métodos electroquímicos. Por otro lado, se han empleado técnicas de ultra alto vacío para la intercalación de elementos como el oxígeno en dicha interfase también con el propósito de debilitar interacciones que afectan directamente a su transferencia. Finalmente, se ha equipado el laboratorio con un imán vectorial superconductor con capacidad de aplicar campo magnético en todas las direcciones del espacio, ensamblado a un equipo criogénico y a un microscopio de fuerzas magnéticas (MFM) con capacidad de medir de manera local las propiedades magnéticas superficiales.
Memoria presentada para optar al grado de Doctor en Ciencias Físicas.-- Tutor: Hermann Suderow (Universidad Autónoma de Madrid).
Programa de FPI del MINECO, referencia BES-2012- 058600.
Sí
PVD, Grafenos - Tesis doctorales, Grafeno, Superficies, Física, fulerenos
PVD, Grafenos - Tesis doctorales, Grafeno, Superficies, Física, fulerenos
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