
doi: 10.55414/9sg3xp43
handle: 11441/85242
El Síndrome de Agotamiento Profesional (SAP) ha sido considerado como una respuesta de las personas frente al estrés laboral crónico, presente especialmente en aquellas profesiones donde se busca ofrecer un servicio o ayuda a un tercero. Frente a ello, consideramos que los profesionales que trabajan dentro de un contexto penitenciario pueden ser vulnerables a mostrar síntomas del SAP. Este artículo presenta los resultados de una investigación sobre la prevalencia y manifestación del SAP en los trabajadores del área de tratamiento de dos Establecimientos Penitenciarios de Lima. Para ello, se aplicó el Maslach Burnout Inventory, adaptado al ámbito penitenciario, y se realizaron grupos focales para profundizar en las características de los contextos laborales. Los resultados señalan que 11.9% de los participantes presentó el SAP al momento de la aplicación, 11.9% de los participantes está en tendencia a desarrollarlo, el 42.9% se encuentra en riesgo y el 33.3% no se encuentra en riesgo.
Work stress, Establecimiento penitenciario, Prison staff, Professional Burnout Syndrome, Síndrome de Agotamiento Profesional, Estrés laboral
Work stress, Establecimiento penitenciario, Prison staff, Professional Burnout Syndrome, Síndrome de Agotamiento Profesional, Estrés laboral
| selected citations These citations are derived from selected sources. This is an alternative to the "Influence" indicator, which also reflects the overall/total impact of an article in the research community at large, based on the underlying citation network (diachronically). | 2 | |
| popularity This indicator reflects the "current" impact/attention (the "hype") of an article in the research community at large, based on the underlying citation network. | Average | |
| influence This indicator reflects the overall/total impact of an article in the research community at large, based on the underlying citation network (diachronically). | Average | |
| impulse This indicator reflects the initial momentum of an article directly after its publication, based on the underlying citation network. | Average |
