Методом высокочастотного импульсно-периодического (f -10-15 кГц) лазерного воздействия с длиной волны y = 1.064 мкм и плотностью мощности q = 85 МВт/см 2 на керамику из оксида цинка, легированную оксидом скандия, при давлении в вакуумной камере p = 2*10-2 мм рт. ст. получены наноструктурированные тонкие пленки на кремниевой подложке. Изучена морфология полученных пленок с помощью атомно-силовой микроскопии. Nanostructured thin films on a silicon substrate were obtained using a high-frequency pulse-periodic f-10-15 kHz laser action at a wavelength y = 1.064 µm, a power density q = 85 MW/cm 2, and a pressure in a vacuum chamber p = 2*10-2 mm Hg on zinc oxide ceramics doped with scandium oxide. The morphology of the obtained films was studied using atomic force microscopy.