Possibility of uniform plasma chemical processing in a capacitive radio frequency (RF) glow discharge is considered. The use of a coaxial preparatory discharge stage elevating gas activation at the periphery of processing zone is proposed. This pre-distortion helps to counteract ambipolar diffusion of charged particles. Thus the problem of a uniform process is reduced to a task of structure adjustment for the said preparatory discharge. Here combination of RF-capacitive discharge with DC current to redistribute electrode potential drops is considered.

Рассмотрена возможность равномерной плазмохимической обработки подложек в тлеющем ВЧЕ-разряде. Предложено использовать подготовительную коаксиальную ступень, усиливающую активацию газа на периферии при входе в зону обработки для противодействия амбиполярной диффузии заряженных частиц. Т.о. проблема поверхностно-равномерного процесса сводится к задаче регулирования структуры подготовительного ВЧЕ-разряда. Здесь рассмотрена комбинация ВЧЕ-разряда с постоянным током для перераспределения приэлектродных скачков потенциала.