В работе предложен новый подход к формированию электретных темплатов в электрофотографическом процессе и сформирован темплат площадью ~ 1 см 2 с периодом ~ 2 мкм электрофотографическим методом при экспозиции пленки нанокомпозитного фотопроводника голограммой. Разработана методика изготовления двумерных периодических металл-диэлектрических структур темплатным методом при экспозиции световым полем голограммы с периодом 0.8-6 мкм и высотой рельефа 3.5-650 нм. Показано, что на поверхность описанного электретного темплата возможно осаждение чрезвычайно широкого круга органических и неорганических соединений в вакууме, с газовой и жидкой фаз. У роботі запропоновано новий підхід до формування електретних темплатів у електрофотографіч- ному процесі і сформований темплат площею ~ 1 см 2 з періодом ~ 2 мкм електрофотографічним мето- дом при експозиції плівки нанокомпозитного фотопровідника голограмою. Розроблено методику виго- товлення двовимірних періодичних метал-діелектричних структур темплатним методом при експози- ції світловим полем голограми з періодом 0.8-6 мкм і висотою рельєфу 3.5-650 нм. Показано, що на поверхню описаного електретного темплату можливо осадження надзвичайно широкого кола органі- чних і неорганічних сполук у вакуумі, з газової і рідкої фаз. In this paper we propose a new approach to the formation of the electret templates by electrophotographic process and perform the ~ 1 cm2 template with a period of ~ 2 microns formed by electrophotographic method of nanocomposite photoconductor film exposure by hologram. A methodic for obtaining of twodimensional periodic metal-dielectric structures by template method of hologram light field exposure with a period of 0.8-6 mm and a relief height 3.5-650 nm is developed. The possibility of extremely wide range of organic and inorganic compounds in a vacuum, with gas and liquid phases deposition on the surface of the described electret template is shown.