La invención hace referencia a un dispositivo de pulverización catódica por magnetrón para la generación y deposición de nanoagregados y nanopartículas, y más en particular, a un dispositivo de pulverización catódica con magnetrón en donde el magnetrón es un magnetrón de erosión completa de cara. La combinación de un magnetrón de erosión completa de cara con una fuente de agregación de gas permite la generación de un haz de nanoagregados o nanopartículas estable en el tiempo, y produce una mejora del uso de la superficie del blanco en más del 100%. Además, la inyección de gases, aparte del gas de pulverización, aumenta tanto la estabilidad como la velocidad de producción del flujo de nanopartículas. La invención puede incluirse en el campo de la nanotecnología y la nano-síntesis química. [ES]

The invention relates to a magnetron sputtering device for the generation and deposition of nanoclusters and nanoparticles, and more particularly, to a magnetron sputtering device wherein the magnetron is a full face erosion magnetron. The combination of full face erosion magnetron with a gas aggregation source allows the generation of a stable nanoclusters or nanoparticles beam overtime and produce an improvement of the use of the target surface in more than 100%. In addition, the injection of gases, apart from the sputtering gas, increases both, the stability and the production rate of the nanoparticle flux. The invention can be included in the field of the nanotechnology and the chemical nano-synthesis. [EN]

Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC), Nano4energy SLNE

T3 Traducción de patente europea

Peer reviewed