publication . Doctoral thesis . 2000

Análisis de óxidos de silicio y estructuras multicapa para aplicaciones microelectrónicas

Moreno Pastor, José Antonio;
Open Access Spanish; Castilian
  • Published: 14 Sep 2000
  • Publisher: Universitat de Barcelona
  • Country: Spain
Abstract
A lo largo de este trabajo se ha estudiado la metodología de análisis de óxidos de silicio mediante elipsometría, la espectroscopía infrarroja y la espectroscopía de fotoelectrones de rayos X (XPS). Se han establecido las dificultades en la obtención de la información útil a partir de las medidas experimentales y se han propuesto las soluciones oportunas. Los procedimientos de cálculo diseñados se han aplicado a un amplio abanico de óxidos de silicio depositados mediante depósito químico en fase vapor a presión atmosférica (APCVD), asistido por plasma (PECVD) y a baja presión (LPCVD). Asimismo, se han calculado modelos termodinámicos basados en la minimización d...
Subjects
free text keywords: Dielèctrics, Espectroscòpia infraroja, Espectroscòpia d'absorció atòmica, Dielectrics, Infrared spectroscopy, Atomic absorption spectroscopy, Microelectrònica, Estructures multicapa, Òxids de silici, Elipsometria, Espectroscòpia, Ciències Experimentals i Matemàtiques, 621.3
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